「氣相沉積」是一種材料沉積技術,主要用於將薄膜或材料層從氣相轉移到固體基材上。這種技術廣泛應用於半導體製造、光學薄膜、表面處理等領域。氣相沉積的過程通常涉及將氣體或蒸氣轉化為固體材料,並在基材表面形成均勻的薄膜。常見的氣相沉積技術包括化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。
這是一種通用的術語,涵蓋了所有從氣相沉積材料的過程。它可以包括化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。在許多高科技應用中,這種技術用於創建薄膜,特別是在電子和光學設備製造中。
例句 1:
這種技術在半導體行業中的氣相沉積非常重要。
This technique is crucial for vapor deposition in the semiconductor industry.
例句 2:
我們使用氣相沉積來製造高性能的光學薄膜。
We use vapor deposition to produce high-performance optical films.
例句 3:
氣相沉積技術的進步使得更精細的薄膜製造成為可能。
Advancements in vapor deposition technology have made it possible to create finer films.
這個術語專指在基材上形成極薄的材料層。薄膜沉積技術在許多應用中都非常重要,包括太陽能電池、顯示器和電子元件的製造。
例句 1:
薄膜沉積技術在太陽能電池的效率提升中發揮了關鍵作用。
Thin film deposition technology plays a crucial role in improving the efficiency of solar cells.
例句 2:
我們的研究專注於薄膜沉積的創新方法。
Our research focuses on innovative methods for thin film deposition.
例句 3:
這種薄膜沉積技術能夠提供均勻的材料分佈。
This thin film deposition technique can provide uniform material distribution.
這是一種特定的氣相沉積技術,使用化學反應將氣體轉化為固體材料。CVD廣泛應用於半導體、光學和材料科學領域。
例句 1:
化學氣相沉積技術被用來製造高品質的半導體材料。
Chemical vapor deposition technology is used to produce high-quality semiconductor materials.
例句 2:
CVD過程中,氣體反應會在基材上形成薄膜。
In the CVD process, gas reactions form a thin film on the substrate.
例句 3:
這種方法在光學薄膜的製造中非常有效。
This method is very effective in the fabrication of optical thin films.
這是一種將固體材料轉化為氣相並沉積到基材上的技術。PVD常用於金屬鍍層和薄膜的製造。
例句 1:
物理氣相沉積技術在金屬鍍層應用中非常普遍。
Physical vapor deposition technology is very common in metal coating applications.
例句 2:
我們使用PVD來創建耐磨的表面。
We use PVD to create wear-resistant surfaces.
例句 3:
這種技術能夠提供高質量的薄膜沉積。
This technique can provide high-quality film deposition.