「光刻機」是一種用於半導體製造過程中的設備，主要用來將電路圖案轉印到晶片上。它利用光學技術，通過將紫外光或其他波長的光線投射到塗有光刻膠的晶圓上，來形成所需的圖案。這個過程對於製造微型電子元件至關重要，因為它決定了晶片上電路的精細度和密度。光刻機的技術進步直接影響著半導體行業的發展，尤其是在製造更小、更快的電子設備方面。
光刻機的主要功能就是使用光學技術來轉印圖案，這個過程稱為光刻。光刻是半導體製造中關鍵的一環，涉及將設計的電路圖案轉印到晶圓上，並且需要高精度的設備來確保圖案的準確性。這類機器通常用於微電子和納米技術的生產過程中。
例句 1：
這台光刻機能夠製作出極為精細的電路圖案。
This photolithography machine can produce extremely fine circuit patterns.
例句 2：
新一代光刻機的精度提升了許多。
The precision of the new generation photolithography machines has improved significantly.
例句 3：
在半導體工廠中，光刻機是最重要的設備之一。
In semiconductor fabs, the photolithography machine is one of the most critical pieces of equipment.
這個術語涵蓋了所有與光刻過程相關的設備，包括光源、曝光機和顯影機等。這些設備的組合使得半導體晶片的生產能夠達到所需的精度和效率。隨著技術的進步，光刻設備的性能也不斷提升，以滿足更高的生產要求。
例句 1：
我們需要升級光刻設備以提高產量。
We need to upgrade our lithography equipment to increase production.
例句 2：
這些光刻設備的維護對於保持生產線的正常運行至關重要。
Maintaining this lithography equipment is crucial for the smooth operation of the production line.
例句 3：
新的光刻設備能夠支持更小尺寸的晶片製造。
The new lithography equipment can support the manufacturing of smaller chip sizes.
這是一種專門的光刻設備，用於對準光掩模和晶圓，以確保圖案的準確轉印。光掩模上有設計的電路圖案，這種設備能精確對齊，從而實現高解析度的圖案轉印。
例句 1：
我們的工廠最近引進了一台新的掩模對準機。
Our factory recently introduced a new mask aligner.
例句 2：
掩模對準機的精度對於晶片的質量至關重要。
The precision of the mask aligner is critical for the quality of the chips.
例句 3：
這台掩模對準機能夠處理多種不同大小的晶圓。
This mask aligner can handle various sizes of wafers.
這是一種先進的光刻機，能夠在晶圓上逐步曝光，從而製作複雜的圖案。它通常用於高端半導體製造，能夠實現更高的解析度和更小的特徵尺寸。
例句 1：
這台晶圓步進機具有非常高的解析度。
This wafer stepper has an extremely high resolution.
例句 2：
晶圓步進機是現代半導體製造的核心設備之一。
The wafer stepper is one of the core devices in modern semiconductor manufacturing.
例句 3：
我們的晶圓步進機需要定期校準以保持性能。
Our wafer stepper needs regular calibration to maintain performance.